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溅射靶材

高纯度铜溅射靶材

高纯度铜溅射靶材

高纯度铜溅射靶材

液晶面板，触摸屏，太阳能电池用高纯铜靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。以进口的高纯铜为原料，加工制成纯度高，晶粒结构均匀的靶材。先进的工艺控制不纯物含量，减少镀膜期间异物粒子的产生从而获得低电阻，质量优的膜质。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘接服务。主要用途：电极，布线
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高纯度铝溅射靶材

高纯度铝溅射靶材

高纯度铝溅射靶材

液晶面板，触摸屏，太阳能电池用高纯铝靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。以高纯铝为原料，通过压延，热处理等一系列加工工艺制成纯度高，晶粒结构均匀的靶材。为使靶材初期放电稳定，对靶材表面进行特殊加工。通过严格控制靶材的气相成分和晶粒度，从而提高靶材从使用初期到末期，膜厚，膜质以及放电稳定。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘接服务。主要用途：电极，布线
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高纯度钛溅射靶材

高纯度钛溅射靶材

高纯度钛溅射靶材

液晶面板，触摸屏，太阳能电池用高纯钛靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。特殊热工艺出理，消除内部应力，保证高粘接附着率。为防止异物粒子产生，对靶材非溅射区进行特殊加工以减少逆向膜产生。为使靶材初期放电稳定，对靶材表面进行特殊加工。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘接服务。主要用途：电极材料，阻隔层
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高纯度钼溅射靶材

高纯度钼溅射靶材

高纯度钼溅射靶材

液晶面板，触摸屏，太阳能电池用高纯钼靶材。可对应最大尺寸G10.5靶材。严格管理原料粉末的纯度以及粒度分布，使靶材的品质稳定；高密度靶材提高放电过程稳定性。严格控制靶材晶粒度各向分布均匀性，保证镀膜过程的稳定性。提供各种平面溅射设备用靶材以及粘结服务。主要用途：导电保护层，阻隔层
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